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產(chǎn)品中心

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  • 水溶性氨基PEG包覆InP/ZnS量子點(diǎn)(發(fā)射600±10nm)

    水溶性InP/ZnS量子點(diǎn)產(chǎn)品是以InP為核心,ZnS為殼層,表面由親水配體包裹的核/殼型熒光納米材料,平均的量子產(chǎn)率為50%,儲(chǔ)存時(shí)應(yīng)避免陽(yáng)光直射,4度密封暗處保存,可以為客戶訂制生產(chǎn)520nm~750nm任一波長(zhǎng)的產(chǎn)品。水溶性氨基PEG包覆InP/ZnS量子點(diǎn)(發(fā)射600±10nm)

    更新時(shí)間:2024-09-19
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  • 水溶性氨基PEG包覆InP/ZnS量子點(diǎn)(發(fā)射580±10nm)

    水溶性InP/ZnS量子點(diǎn)產(chǎn)品是以InP為核心,ZnS為殼層,表面由親水配體包裹的核/殼型熒光納米材料,平均的量子產(chǎn)率為50%,儲(chǔ)存時(shí)應(yīng)避免陽(yáng)光直射,4度密封暗處保存,可以為客戶訂制生產(chǎn)520nm~750nm任一波長(zhǎng)的產(chǎn)品。水溶性氨基PEG包覆InP/ZnS量子點(diǎn)(發(fā)射580±10nm)

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  • 水溶性氨基PEG包覆InP/ZnS量子點(diǎn)(發(fā)射550±10nm)

    水溶性InP/ZnS量子點(diǎn)產(chǎn)品是以InP為核心,ZnS為殼層,表面由親水配體包裹的核/殼型熒光納米材料,平均的量子產(chǎn)率為50%,儲(chǔ)存時(shí)應(yīng)避免陽(yáng)光直射,4度密封暗處保存,可以為客戶訂制生產(chǎn)520nm~750nm任一波長(zhǎng)的產(chǎn)品。水溶性氨基PEG包覆InP/ZnS量子點(diǎn)(發(fā)射550±10nm)

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  • 水溶性氨基PEG包覆InP/ZnS量子點(diǎn)(發(fā)射520±10nm)

    水溶性InP/ZnS量子點(diǎn)產(chǎn)品是以InP為核心,ZnS為殼層,表面由親水配體包裹的核/殼型熒光納米材料,平均的量子產(chǎn)率為50%,儲(chǔ)存時(shí)應(yīng)避免陽(yáng)光直射,4度密封暗處保存,可以為客戶訂制生產(chǎn)520nm~750nm任一波長(zhǎng)的產(chǎn)品。水溶性氨基PEG包覆InP/ZnS量子點(diǎn)(發(fā)射520±10nm)

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    產(chǎn)品型號(hào):
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  • 水溶性羧基PEG包覆InP/ZnS量子點(diǎn)(發(fā)射750±10nm)

    本產(chǎn)品具有粒徑均一,吸收光譜寬泛,發(fā)射光譜窄而對(duì)稱,熒光強(qiáng)度高而穩(wěn)定等特點(diǎn)。目前可提供表面為羧基或者氨基,3-巰基丙酸(MPA)和PEG作為包覆劑。水溶性羧基PEG包覆InP/ZnS量子點(diǎn)(發(fā)射750±10nm)

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